首页 > 科技 > 电子技术 > 微电子、集成电路、显示技术

TFT-LCD原理与设计

作译者：马群刚

出版时间：2011-09 千字数：0 版次：01-01 页数：464

开本：16(185*260) 装帧：null I S B N ：9787121145940

换版：

纸质书定价：￥59.8

库存:无

分享到：

共有图书评论0条【查看评论摘要】

看了又看

{{data.bookName}}

￥{{data.price}}

内容简介

前言

上架建议

作者简介

编辑推荐

音视频专区

目录第一章 TFT-LCD概述 1.1 TFT-LCD的发展 1.1.1 TFT-LCD发展简史 1.1.2 TFT-LCD的竞争与趋势 1.1 TFT-LCD的基本概念 1.2.1 产品相关的概念 1.2.2 光学相关的概念 1.3 TFT-LCD的结构与功能 第二章 彩色TFT-LCD基础 2.1 色彩学基础 2.1.1 光与色 2.1.2 光的亮度 2.1.3 色的坐标 2.1.4 色的温度 2.1.5 TFT-LCD的彩色显示 2.2 TFT器件基础 2.2.1 TFT器件原理 2.2.2 TFT开关的特性要求 2.2.3 TFT开关特性的工艺设计 2.2.4 TFT开关特性的结构设计 2.3 液晶显示基础 2.3.1 液晶的基本结构与特性 2.3.2 液晶光学 2.3.3 液晶电学 2.3.4 液晶力学 2.3.5 液晶的显示模式 第三章 TFT-LCD材料技术 3.1 玻璃基板 3.1.1　玻璃基板的制造技术与发展 3.1.2　玻璃基板的使用要求 3.2 ITO薄膜 3.3 配向膜 3.3.1 配向膜的材料技术 3.3.2 配向膜的特性要求 3.4 液晶材料 3.4.1 液晶的物理特性与分子结构设计 3.4.2 液晶材料的特性要求 3.5 Seal材 3.6 微粒子 3.6.1 球状Spacer 3.6.2 纤维状Spacer和金球Spacer 3.7 CF基板 3.7.1 CF的材料技术 3.7.2 CF的特性要求 3.7.3 CF的制造技术 3.8 偏光薄膜 3.8.1 偏光板 3.8.2 相位差板 3.8.3 宽视角补偿膜 3.9 电路元件 3.10 背光源　 3.10.1 光源 3.10.2 光学膜片 3.10.3 导光板 第四章 TFT-LCD工艺技术 4.1 阵列工艺技术 4.1.1 阵列工艺流程 4.1.2 洗净工艺 4.1.3 Sputter成膜工艺 4.1.4 CVD成膜工艺 4.1.5 PR工艺 4.1.6 曝光工艺 4.1.7 湿刻工艺 4.1.8 干刻工艺 4.1.9 阵列检查工程 4.2 成盒工艺技术 4.2.1 配向膜成膜与配向 4.2.2 Spacer散布与固着 4.2.3 封框胶与银浆涂布 4.2.4 液晶滴下 4.2.5 真空贴合 4.2.6 封框胶硬化 4.2.7 玻璃切断 4.2.8 偏光板贴付 4.2.9 成盒工程检查 4.3 模块工艺技术 4.3.1 OLB工程 4.3.2 PCB压接 4.3.3 模块组装 4.3.4 老化实验 4.3.5 模块工程检查 第五章 TN显示原理与设计 5.1 TN显示原理 5.1.1 TN显示的光透过率 5.1.2 TN显示的光学原理 5.1.3 TN显示的电学原理 5.2 TN像素工作原理 5.2.1 TN像素基本结构 5.2.2 像素中的电容效应 5.2.3 配线延迟效应 5.2.4 灰阶电压写入与保持 5.2.5 TN显示的综合效应 5.3 15XGA的显示屏设计 5.3.1 预设计 5.3.2 阵列侧像素设计 5.3.3 彩膜侧像素设计 5.3.4 显示屏周边设计 5.3.5 显示屏用Mark设计 5.4 15XGA的基板相关设计 5.4.1 基板用TEG与Mark设计 5.4.2 UV Mask与UVSheet设计 5.4.3 配向膜印刷版设计 第六章 IPS显示原理与设计 6.1 IPS显示原理 6.1.1 IPS显示的光透过率 6.1.2 IPS显示的光学原理 6.1.3 IPS显示的电学原理 6.1 IPS技术的发展 6.2.1 从单畴结构到多畴结构 6.2.2 有机膜IPS技术 6.3 32HD显示屏设计 6.3.1 S-IPS像素概要 6.3.2 SA-IPS像素概要 6.3.3 32HD像素设计 6.3.4 32HD显示屏设计 6.4 FFS显示原理与设计 6.4.1 FFS的电光学原理 6.4.2 FFS技术的发展 6.4.3 FFS的像素设计 6.5 IPS残像机理与解决方案 6.5.1 IPS残像机理 6.5.2 离子型不纯物分析 6.5.3 残留DC分析 6.5.4 线残像的机理与对策 第七章 VA显示原理与设计 7.1 VA显示原理 7.1.1 VA显示的光透过率 7.1.2 VA显示的光学原理 7.1.2 VA显示的电学原理 7.2 不同VA技术的发展 7.2.1 MVA技术的发展 7.2.2 PVA技术的发展 7.2.3 CPA技术的发展 7.2.4 新型VA显示技术 7.3 VA的色偏机理与对策 7.3.1 VA的色偏机理与评价 7.3.2 色偏的改善技术 7.4 46FHD显示屏设计 7.4.1 46FHD像素的预设计 7.4.2 46FHD像素的详细设计 7.4.3 46FHD显示屏的整体设计 7.4.4 46FHD显示屏拼接曝光设计 第八章 TFT-LCD驱动技术与设计 8.1 TFT-LCD驱动原理 8.1.1 驱动原理简介 8.1.2 驱动方式 8.1.3 阶调增强技术　 8.2 TFT-LCD电路技术 8.2.1 电源电路 8.2.2 时序控制电路 8.2.3 数据驱动电路 8.2.4 扫描驱动电路 8.2.5 接口电路 8.3 TFT-LCD电路设计 8.3.1 电路设计概要 8.3.2 电路原理图设计 8.3.3 PCB版图设计 8.3.4 COF设计 8.3.5 伽玛设计与调节 第九章 TFT-LCD结构技术与设计 9.1 结构技术与设计概要 9.1.1 结构技术概要 9.1.2 结构设计概要 9.2 OPEN CELL结构设计 9.3 背光源结构设计 9.3.1 后板金设计 9.3.2 导光板设计 9.3.3 光学膜片设计 9.3.4 灯管设计 9.3.5 灯管反射罩和电源线设计 9.3.6 LED光源的结构设计 9.4 模块结构综合设计 9.4.1 组装设计 9.4.2 强度设计 9.4.3 散热与防尘设计 9.4.4 电学设计 9.4.5 光学设计 9.4.6 安全性设计 第十章 高品质和低成本设计 10.1 面向光学规格的高品质设计 10.1.1 高亮度设计 10.1.2 高对比度设计 10.1.3 高响应速度设计 10.2 面向特殊画质的高品质设计 10.2.1 闪烁机理与设计对策 10.2.2 串扰机理与设计对策 10.2.3 显示不均机理与设计对策 10.3 合格率设计 10.3.1 工程检查及相关设计 10.3.2 ESD改善设计 10.3.3 点缺陷修复设计 10.3.4 线缺陷修复设计 10.4 低成本设计 10.4.1 4MASK设计 10.4.2 省UV MASK设计 10.4.3 低材料成本设计 第十一章 LTPS TFT-LCD原理与设计 11.1 LTPS TFT原理与设计 11.1.1 LTPS TFT器件基础 11.1.2 LTPS TFT特性设计 11.1.2 LTPS TFT工艺技术 11.2 LTPS TFT-LCD周边电路集成设计 11.2.1 模拟输入电路集成设计 11.2.2 DAC内置电路集成设计 11.3 半透过型LTPS TFT-LCD原理与设计 11.3.1 半透过型LTPS TFT-LCD 11.3.2 半透过型TFT-LCD的反射光学设计 11.3.3 半透过型TFT-LCD的偏光光学设计

前 言 世界TFT-LCD产业的格局正处在中韩日三国时代。日本最早将TFT-LCD推向产业化，韩国继日本之后成为世界最大的TFT-LCD生产国，现在中国的TFT-LCD产量已跃居世界首位。在中国，台湾最先进入TFT-LCD行业，随后在上海、北京、江苏、广东、安徽、湖北、四川等省市先后建立了4.5代以上的TFT-LCD生产线。中国TFT-LCD产业格局进入了典型的战国时代。 TFT-LCD是资金和技术密集型的产业。每个TFT-LCD工场都需要大量懂技术、有经验的工程师在一线担负起维护工场运行、开发有竞争力产品等的重任。面对目前TFT-LCD行业缺少学习资料的现实，作者把多年来在TFT-LCD行业学习、工作的笔记进行了整理，编写了此书。 TFT-LCD涉及的学科很多，本书基于TFT-LCD生产的实践，科学原理与工程应用相结合，全面系统地阐述了TFT-LCD的原理与设计。在第一章简要介绍了TFT-LCD的发展和基本概念，帮助读者初步建立起TFT-LCD的概念。第二章以色彩学、TFT器件、液晶显示为重点详细介绍彩色TFT-LCD的三大基石，为后续TFT-LCD原理与技术的展开奠定基础。第三章介绍TFT-LCD的材料技术，说明材料设计对产品品质、合格率、成本等的影响。第四章通过介绍工艺对TFT-LCD产品品质、合格率等的影响，提供TFT-LCD设计面向工艺时所要注意的一些整合内容。第五章到第九章完整介绍TFT-LCD产品在显示屏、驱动、结构三个方面的原理与设计。显示屏的设计又按显示模式的不同，先后介绍TN、IPS和VA三种模式显示屏的原理与设计。针对市场化的产品设计，第十章列举了高品质、低成本的设计理念与方法，介绍高性价比TFT-LCD产品的设计。最后在第十一章围绕中小尺寸，特别是便携式TFT-LCD的发展，介绍低温多晶硅LTPS工艺，以及LTPS技术重点应用的半透过型TFT-LCD的原理与设计。作者经历过半导体集成电路的发展，也经历了TFT-LCD的兴起。这些技术密集型的产业没有创新就谈不上发展，创新离不开技术的积累。真诚地希望此书能够对TFT-LCD行业相关人员的学习与工作起到一点帮助。此书的撰写得到了许多同事与朋友的帮助，特别感谢苏世虎在第九章撰写过程中给予的帮助，特别感谢中电熊猫液晶显示科技有限公司常务副总经理朱立锋博士为本书顺利出版给予的支持。此书的撰写几乎耗尽了作者两年多的业余时间，非常感谢家人在撰写过程中给予的理解、关心与支持。限于作者的水平，不妥和谬误之处，恳请各位专家和读者批评指正。 马群刚 2010年11月6日

查看更多 > 图书评论

暂无评论

发表图书评论

评论标题：
评论内容：
验证码：: 看不清楚
点击刷新
: 您还没有登录，请登录后再评论。
点击“登录”

购买过本书的顾客还买过

{{data.bookName}}

￥{{data.price}}